RCX-9800型光譜金屬分析儀

  • 2018-10-24 10:26:00
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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

榮德-德譜RCX9800型光譜金屬分析儀是我公司引進(jìn)歐洲技術(shù)生產(chǎn),是目前國(guó)際公認(rèn)的第二代CCD光譜儀技術(shù), 廣泛應(yīng)用于冶金、鑄造、機(jī)械、汽車制造、航空航天、兵器、金屬加工、礦產(chǎn)等領(lǐng)域的生產(chǎn)工藝控制,爐前化驗(yàn),中心實(shí)驗(yàn)室成品檢驗(yàn)。儀器體積小、穩(wěn)定性好、檢測(cè)限低、分析速度快、運(yùn)行成本低、操作維護(hù)方便,是控制產(chǎn)品質(zhì)量的理想選擇。


主要特點(diǎn):


l         可測(cè)定包括痕量碳(C)、磷(P)、硫(S)元素,適用于多種金屬基體,如:鐵基,鋁基,銅基,鎳基,鉻基,鈦基,鎂基,鋅基,錫基和鉛基。全譜技術(shù)覆蓋了全元素分析范圍,可根據(jù)客戶需要選擇通道元素;

l         關(guān)鍵核心部件均采用原裝進(jìn)口;

l         增加、改變?cè)赝ǖ?,通過軟件設(shè)置就可以,無須添加任何硬件,省心、省時(shí)、省錢;

l         分析速度快捷,20秒內(nèi)測(cè)完所有通道的元素成分。針對(duì)不同的分析材料,通過設(shè)置預(yù)燃時(shí)間及標(biāo)線,使儀器用短的時(shí)間達(dá)到優(yōu)的分析效果;

l         光譜儀光學(xué)系統(tǒng)采用真空、恒溫光室, 激發(fā)時(shí)產(chǎn)生的弧焰由透鏡直接導(dǎo)入真空光室,實(shí)現(xiàn)光路直通,消除了光路損耗,提高檢出限,測(cè)定結(jié)果準(zhǔn)確,重現(xiàn)性及長(zhǎng)期穩(wěn)定性極佳;

l         特殊的光室結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),使真空室容積更小,抽真空速度不到普通光譜儀的一半;

l         自動(dòng)光路校準(zhǔn),光學(xué)系統(tǒng)自動(dòng)進(jìn)行譜線掃描,確保接收的正確性,免除繁瑣的波峰掃描工作。儀器自動(dòng)識(shí)別特定譜線,與原存儲(chǔ)線進(jìn)行對(duì)比,確定漂移位置,找出分析線當(dāng)前的像素位置進(jìn)行測(cè)定;

l         開放式的電極架設(shè)計(jì),可以調(diào)整的樣品夾,便于各種形狀和尺寸的樣品分析;

l         工作曲線采用國(guó)際標(biāo)樣,預(yù)做工作曲線,可根據(jù)需要延伸及擴(kuò)展范圍,每條曲線由多達(dá)幾十塊標(biāo)樣激發(fā)生成,自動(dòng)扣除干擾;

l         激發(fā)能量、頻率連續(xù)可調(diào)全數(shù)字固態(tài)光源,適應(yīng)各種不同材料;

l         固態(tài)吸附阱,防止油氣對(duì)光室的污染,提高長(zhǎng)期運(yùn)行穩(wěn)定性;

l         銅火花臺(tái)底座,提高散熱性及堅(jiān)固性能;

l         合理的氬氣氣路設(shè)計(jì),使樣品激發(fā)時(shí)氬氣沖洗時(shí)間縮短,為用戶節(jié)省氬氣,氬氣消耗不到普通光譜儀的一半;

l         采用儼牧系緙?,稻~褂檬倜ぃ⑸杓屏說緙源瞪üδ?,清洁稻~尤菀祝?

l         高性能DSP及ARM處理器,具有超高速數(shù)據(jù)采集及控制功能并自動(dòng)實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)光室溫度、真空度、氬氣壓力、光源、激發(fā)室等模塊的運(yùn)行狀況;

l         儀器與計(jì)算機(jī)之間采用以太網(wǎng)連接,抗干擾性能好,外部計(jì)算機(jī)升級(jí)與儀器配置無關(guān),使儀器具有更好的適用性。                                                        儀器采用臥式結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),體積小,外形美。

主要參數(shù)指標(biāo)

光學(xué)系統(tǒng)
光學(xué)結(jié)構(gòu)
帕邢-龍格結(jié)構(gòu)的全譜真空型光學(xué)系統(tǒng)
(RCX-8500型為非真空型,適用于鋁基等有色金屬中除 C、S、P外的其他元素檢測(cè))
光室溫度 自動(dòng)控制恒溫:35℃±0.5℃
波長(zhǎng)范圍 160-800nm
光柵焦距 350 mm
光柵刻線 2160 l/mm
一級(jí)光譜線色散率 1.2 nm/mm
探測(cè)器 多塊高性能線陣CCD
平均分辨率 10pm/pixel
激發(fā)臺(tái)
氣體 沖氬式
氬氣流量      激發(fā)時(shí)3-5L/min, 待機(jī)時(shí):無須待機(jī)流量   
電極 鎢材噴射電極技術(shù)
吹掃 點(diǎn)擊自吹掃功能
補(bǔ)償 熱變形自補(bǔ)償設(shè)計(jì)
分析間隙 樣品臺(tái)分析間隙:4mm
激發(fā)光源
類型 全數(shù)字式火花激發(fā)光源
頻率 100-1000Hz
放電電流 1-80A
特殊技術(shù) 放電參數(shù)優(yōu)化設(shè)計(jì)
預(yù)燃 高能預(yù)燃技術(shù)
數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)
處理器 高端ARM處理器,高速數(shù)據(jù)同步采集處理
接口 基于DM9000A的以太數(shù)據(jù)傳輸
電源與環(huán)境要求
輸入 220VAC 50Hz
功率 分析時(shí)大700W,待機(jī)狀態(tài)40W
工作溫度 10-30℃(該溫度范圍內(nèi)溫度變化不大于5℃/h)
工作濕度 20-80%
尺寸與重量
尺寸 450*400*500 mm
重量 45Kg

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